程序降温仪

1. 生产厂家：
2. 产品型号：

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液氮罐

1. 生产厂家：
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全自动化液氮存储系统

1. 生产厂家：
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VGB-P系列手套箱专用等离子清洗机

1. 生产厂家：CIF
2. 产品型号：VGB-P/CPC-Plus

● CIF推出VGB-P系列手套箱专用等离子清洗设备，优化的腔体结构及合理的结构设计更适合手套箱内使用。安装简单方便，性能稳定，实用性强，容易维护。...

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全自动湿法处理系统

1. 生产厂家：德国Osiris
2. 产品型号：CHEMIXX 1201

● CHEMIXX 1201是全自动湿法处理系统，配置cassette to cassette 或foup,，支持12寸及以下尺寸晶圆或9 x 9 英寸方片的湿法处理，包括蚀刻、清洁或显影工艺。该系统可配...

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大尺寸湿法处理系统

1. 生产厂家：德国Osiris
2. 产品型号：CHEMIXX 760

● CHEMIXX 760系统是一款大尺寸湿法系统，支持最大样品达535X535mm(21寸方片)，更大的样品尺寸可定制，一台系统可实现清洗、蚀刻 、显影 ，干燥整个工艺过程。...

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湿法刻蚀专用系统

1. 生产厂家：德国Osiris
2. 产品型号：CHEMIXX E 30Pm

● CHEMIXX E 30 湿法刻蚀系统专门用于掩膜版与晶圆的刻蚀与清洗，安全性能好，可使用 H2SO4, H2O2,NH4OH,HF,BOE等液体。...

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CMP后双面清洗机

1. 生产厂家：德国Osiris
2. 产品型号：CHEMIXX CMP 30pm

● CHEMIXX CMP 30pm是一款专门为晶圆双面清洗设计的系统，独立系统，占地面积小，非常适合有限的空间。具有4路化学液清洗，兆声清洗，双面PVA刷洗，去离子水冲洗等清洗模块，对晶圆有顶级的清洗能...

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标准湿法处理系统

1. 生产厂家：德国Osiris
2. 产品型号：CHEMIXX 30pm

● CHEMIXX 30pm湿法台是一款半自动单面湿法系统，主要用于晶圆或者方片的清洗，刻蚀，显影等应用，其中清洗部分具有化学清洗，兆声清洗，PVA刷洗，高压DI水冲洗，背部清洗等多种功能。...

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